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B.W.F.von Lensa

  • Entwicklung einer Elektronenbestrahlungsanlage mit hoher Dosisleistung fur Restwiderstandsproben und Durchfuhrung von Bestrahlungsexperimenten an verdunnten Cu-Legierungen zwischen 200 K und 450 K.Entwicklung einer Elektronenbestrahlungsanlage mit hoher Dosisleistung fur Restwiderstandsproben und Durchfuhrung von Bestrahlungsexperimenten an verdunnten Cu-Legierungen zwischen 200 K und 450 K.